Recubrimiento PVD
La tecnología PVD (Physical Vapor Deposition) se refiere al uso de métodos físicos en condiciones de vacío para vaporizar la superficie de una fuente material (sólida o líquida) en átomos o moléculas gaseosos, o ionizar parcialmente en iones, y a través de un gas a baja presión ( o plasma), tecnología que deposita películas delgadas con ciertas funciones especiales en la superficie de un sustrato.PVD (deposición física de vapor) es una tecnología principal de tratamiento de superficies ampliamente utilizada en la modificación de superficies, funcionalización, decoración, etc. de materiales en diversas industrias.
La tecnología de recubrimiento PVD (deposición física de vapor) se divide principalmente en tres categorías: recubrimiento por evaporación al vacío, recubrimiento por pulverización catódica al vacío y revestimiento iónico al vacío.Los principales métodos de deposición física de vapor incluyen la evaporación al vacío, el recubrimiento por pulverización catódica, el recubrimiento por plasma por arco, el recubrimiento por iones, etc. Los equipos de recubrimiento al vacío correspondientes incluyen máquinas de recubrimiento por evaporación al vacío, máquinas de recubrimiento por pulverización catódica al vacío y máquinas de recubrimiento por iones al vacío.
Nuestros productos relacionados incluyen revestimientos de crisol de haz de electrones, filamentos de evaporación de tungsteno, filamentos de tungsteno de cañón de electrones, botes de evaporación, materiales de evaporación, objetivos de pulverización catódica, etc.
Horno de vacío
Un horno de vacío utiliza un sistema de vacío (cuidadosamente ensamblado a partir de bombas de vacío, dispositivos de medición de vacío, válvulas de vacío y otros componentes) en un espacio específico de la cavidad del horno para descargar parte del material en la cavidad del horno de modo que la presión en el horno cavidad es menor que una presión atmosférica estándar., el espacio en la cavidad del horno se utiliza para lograr un estado de vacío, que es un horno de vacío.
Un horno de vacío es un horno de tratamiento térmico al vacío, que se distingue según su aplicación e incluye los siguientes tipos:
Horno de enfriamiento al vacío, horno de soldadura fuerte al vacío, horno de recocido al vacío, horno de magnetización al vacío, horno de templado al vacío, horno de sinterización al vacío, horno de soldadura por difusión al vacío, horno de cementación al vacío, etc.
Los hornos de vacío se utilizan principalmente para cocción de cerámica, fundición al vacío, desgasificación eléctrica de piezas al vacío, recocido, soldadura fuerte de piezas metálicas, sellado cerámico-metal, deposición física de vapor (PVD), etc.
Ofrecemos elementos calefactores, bandejas y transportadores para embarcaciones, escudos térmicos, crisoles y revestimientos, filamentos de tungsteno y fuentes de evaporación, sujetadores y más, disponibles en materiales de tungsteno, molibdeno o tantalio, y se pueden personalizar.
Fotovoltaica y semiconductores
Un horno de crecimiento de silicio monocristalino, también conocido como horno de crecimiento de cristales de silicio o horno de lingotes de silicio, es un equipo especial utilizado en las industrias fotovoltaica y de semiconductores para producir lingotes de silicio monocristalino de alta calidad.El silicio monocristalino es el material básico para la fabricación de dispositivos semiconductores como circuitos integrados (CI), células solares y sensores.
El "método Czochralski" es actualmente el método más utilizado para preparar silicio monocristalino.
Al preparar silicio monocristalino utilizando el método Czochralski (método CZ), primero coloque silicio policristalino de alta pureza en un crisol de cuarzo, espere a que el silicio policristalino se derrita en un horno monocristalino y luego fije el cristal semilla en la semilla. eje e insértelo en la superficie de la solución.A la espera de la fusión del cristal semilla y la solución, el silicio comenzará a solidificarse en el cristal semilla y crecerá a lo largo de la estructura reticular del cristal semilla para formar silicio monocristalino.Durante este proceso, es necesario extraer lentamente el cristal semilla para permitir que el silicio monocristalino siga creciendo.
Proporcionamos varillas para semillas de molibdeno, revestimientos de crisoles de tungsteno y molibdeno, sujetadores, ganchos de molibdeno, martillos de carburo de tungsteno, etc.
Vidrio y tierras raras
La industria del vidrio desempeña un papel vital en la sociedad moderna, ya que proporciona materiales esenciales para la construcción, el transporte, la tecnología, la atención sanitaria y el embalaje, al tiempo que impulsa la innovación, la sostenibilidad y el crecimiento económico.
Podemos proporcionar electrodos de molibdeno para fundir vidrio.Los diámetros de los electrodos de molibdeno comúnmente utilizados varían de 20 mm a 152,4 mm, y la longitud de un solo electrodo puede ser de hasta 1500 mm.Podemos proporcionar superficies lavadas con álcali, superficies pulidas a máquina, etc.
La industria de las tierras raras implica la extracción, el procesamiento y la utilización de elementos de tierras raras, que son clave para promover la innovación tecnológica y apoyar la transición hacia una economía de alta tecnología y bajas emisiones de carbono.Los elementos de tierras raras son componentes importantes de diversas tecnologías y aplicaciones avanzadas.
Podemos proporcionar elementos calefactores de tungsteno, molibdeno y tantalio;crisoles de tungsteno sinterizado, crisoles de molibdeno y crisoles de grafito, etc.
Accesorios para instrumentos y medidores
● Los diafragmas metálicos se utilizan principalmente en transmisores y manómetros de diafragma.Los materiales que producimos incluyen SS316L, tantalio, titanio, HC276, Monel400 e Inconel625.
● Los electrodos de señal se utilizan principalmente en caudalímetros electromagnéticos.El tamaño del electrodo es M3~M8 y los materiales incluyen SS316L, tantalio, titanio y HC276.
● El electrodo de tierra, también llamado anillo de tierra, se usa principalmente en medidores de flujo electromagnéticos y generalmente se usa en pares.El tamaño es de DN25~DN600 y los materiales incluyen SS316L, tantalio, titanio y HC276.
● Brida sellada por diafragma, generalmente con un sello de diafragma para aislar la celda de medición del medio.Los materiales de bridas que producimos son SS316L, titanio, HC276 y tantalio.Cumple con ASME B 16.5, DIN EN 1092-1 y otras normas.
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