El método de evaporación por haz de electrones es un tipo de recubrimiento de evaporación al vacío que utiliza haces de electrones para calentar directamente el material de evaporación en condiciones de vacío, vaporizar el material de evaporación y transportarlo al sustrato y condensarlo sobre el sustrato para formar una película delgada.En el dispositivo de calentamiento por haz de electrones, la sustancia calentada se coloca en un crisol enfriado por agua, lo que puede evitar la reacción entre el material de evaporación y la pared del crisol y afectar la calidad de la película.Se pueden colocar varios crisoles en el dispositivo para lograr la evaporación y deposición simultánea o separada de diversas sustancias.Con la evaporación por haz de electrones, se puede evaporar cualquier material.
La evaporación por haz de electrones puede evaporar materiales con un punto de fusión alto.En comparación con la evaporación por calentamiento por resistencia general, tiene una mayor eficiencia térmica, una mayor densidad de corriente del haz y una velocidad de evaporación más rápida.Película y película de diversos materiales ópticos como vidrio conductor.
La característica de la evaporación por haz de electrones es que rara vez cubre los dos lados de la estructura tridimensional del objetivo y, por lo general, solo se deposita en la superficie del objetivo.Ésta es la diferencia entre la evaporación por haz de electrones y la pulverización catódica.
La evaporación por haz de electrones se utiliza comúnmente en el campo de la investigación y la industria de semiconductores.La energía del electrón acelerado se utiliza para golpear el objetivo material, provocando que el objetivo material se evapore y se eleve.Finalmente depositado en el objetivo.
Hora de publicación: 02-dic-2022